10月28日，《中共中央關于制定國民經濟和社會發展第十五個五年規劃的建議》正式發布。《建議》在“加快高水平科技自立自強”部分明確提出，要完善新型舉國體制，采取超常規措施，全鏈條推動包括集成電路、高端儀器在內的重點領域關鍵核心技術攻關取得決定性突破。這一部署，不僅再次確立了集成電路產業的戰略高度，更強調了高端儀器在保障國家產業鏈安全中的關鍵作用。

響應政策號召，前瞻布局半導體國產替代

近年來，國家相繼出臺系列政策，全力支持集成電路全產業鏈的創新發展，提升自主可控能力。作為國內氣體傳感器與高端科學儀器的上市企業，四方光電股份有限公司（以下簡稱“四方光電”）及旗下全資子公司四方光電（武漢）儀器有限公司（以下簡稱“四方儀器”）積極響應國家政策號召，依托在氣體傳感領域的深厚技術積淀和敏銳產業洞察，前瞻性布局半導體精密制造領域，已構建起完整的技術研發和產業化體系，特別是在紅外（NDIR）、氧化鋯等傳感原理上，具備了從核心傳感器到高端分析儀器的全鏈條自主研發能力。

針對半導體制造中對氣體環境極其嚴苛的監控需求，四方光電持續技術攻堅，打破國外壟斷，自主研發推出紅外氣體傳感器和微量氧分析儀等多款創新產品，精準解決行業核心痛點，為中國半導體產業的高質量發展提供堅實可靠的國產化技術支撐。

聚焦核心技術，以創新產品直擊行業痛點

01.紅外氣體傳感器：精準判定清潔終點，推動綠色制造

在薄膜沉積（CVD/ALD）工藝中，腔室清潔是保障工藝穩定性的關鍵步驟。傳統基于經驗時間的控制方法，為避免清潔不徹底往往采取過度清潔策略，造成了NF?等昂貴工藝氣體的巨大浪費。

四方光電推出的 Gasboard-2060紅外氣體傳感器，直擊這一痛點。該產品通過實時、精準監測清潔過程中副產物如SiF?的濃度變化，能夠精準、智能地判定清潔終點。這幫助客戶在實現精準工藝控制的同時，有效降低運營成本，踐行綠色制造理念。

02. 微量氧分析儀：0.1ppm級精度，守護工藝環境純凈

在半導體制造中，氧污染是影響芯片良率的“隱形殺手”。即便微量氧氣（低至ppm級）也足以引發不必要的氧化反應，導致集成電路和硅片缺陷，破壞薄膜結構的完整性，嚴重影響產品的均勻性和可靠性。

四方光電自主研發的 Gasboard-3050系列低濃度氧氣分析儀，最低分辨率達0.1 ppm，量程覆蓋0–10 ppm至100% O?，搭載經現場長期驗證的氧化鋯傳感器，具備優異的再現性與高速響應特性，能對工藝氣體及設備腔室中的氧含量進行精準監測，從而有效幫助客戶從源頭控制氧污染，為提升產品良率提供可靠保障。

贏得市場信賴，國產力量獲頭部客戶認可

憑借產品性能與穩定的質量表現，四方光電的半導體行業氣體監測方案已成功打入國內多家主流半導體制造企業與設備廠商的供應鏈，并獲得頭部客戶的持續采購與良好評價。客戶反饋證實，四方光電的產品在穩定性及使用壽命等關鍵指標上，已達到同類進口產品水平，真正實現了國產化替代。

與此同時，四方光電積極參與SEMICON China、CSEAC半導體設備年會等全球頂級半導體行業盛會，通過展會平臺與產業界深入交流，持續擴大品牌影響力，展示了中國企業在高端科學儀器領域的創新實力與進取精神。

展望“十五五”新征程，高端儀器與集成電路產業的命運緊密交織在一起。四方光電將繼續秉持技術自立的初心，緊密圍繞國家戰略與產業需求，不斷攻堅高端氣體分析領域的“卡脖子”難題，以更多創新、可靠的傳感解決方案，賦能中國半導體產業的提質增效與自主可控。